В Зеленограде создали первый литограф для микрочипов с топологией 350 нм

5f0e8c2f4abf5326cc8ae3a373444eb9

Этo пeрвoe oтeчeствeннoe устрoйствo тaкoгo урoвняУчёныe сoздaли пeрвый рoссийский прибoр на прoизвoдствa микрoчипoв с возможностью обработки пластин перед 200 нм

Одной изо http://thewell.ru/vybor-ofisnogo-pomeshheniya главных особенностей установки следственно использование твердотельного лазера, заменившего ртутные лампы. Сие новшество делает компонент более мощным, энергоэффективным и долговечным. Тоже разработка получила улучшенные характеристики: увеличенное рабочее край, до 22 бери 22 мм, и поддержку пластин диаметром поперед 200 мм, что же значительно расширяет её внутренние резервы для применения в микроэлектронике.

В установленный момент ЗНТЦ энергически работает над адаптацией оборудования по-под нужды конкретных клиентов и готовится к поставкам первых установок. И в центре ведутся испытания и доводка процессов на специализированной площадке, как будто позволит минимизировать авторитет на текущие производственные очертания и ускорить внедрение новых технологий. В будущем ЗНТЦ планирует исполнить установку с разрешением 130 нанометров, которую намерены довершить к 2026 году.

Комментирование и размещение ссылок запрещено.

Комментарии закрыты.